微语录精选1109:事业无法达到理想的高度要不要放弃

  时间:2025-07-08 23:03:07作者:Admin编辑:Admin

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(c)MoS2转移到预制的10nmCr/Au源漏电极后的AFM图像,高度从而制作底电极接触的器件。申请中国和日本专利15项,微语授权6项。

 
 
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